Inductively coupled plasma
บทความนี้มีชื่อเป็นภาษาอังกฤษ เนื่องจากยังไม่มีชื่อภาษาไทยที่กระชับ เหมาะสม, ไม่ปรากฏคำอ่านที่แน่ชัด หรือไม่ปรากฏคำแปลที่ใช้ในทางวิชาการ |
Inductively coupled plasma (ICP) คือพลาสมาชนิดหนึ่งที่ได้รับพลังงานจากกระแสไฟฟ้า ซึ่งสร้างขึ้นจากการเหนี่ยวนำแม่เหล็กไฟฟ้า [1]
อุณหภูมิของพลาสมาอาจมีค่าตั้งแต่ 6 000 K จนถึง 10 000 K ซึ่งเทียบเท่ากับอุณหภูมิพื้นผิวของดวงอาทิตย์ ICP ที่ปลดปล่อยออกมาจึงมีความหนาแน่นอิเล็กตรอนสูงมาก ในระดับ 1015 cm−3 เราสามารถนำ ICP ไปประยุกต์ใช้ได้หลายแบบในงานที่ต้องใช้พลาสมาความหนาแน่นสูง
- Inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy หรือ ICP-AES เป็นสเปกโตรสโกปีของการปลดปล่อยอะตอม
- Inductively coupled plasma mass spectrometry หรือ ICP-MS : เป็นแมสสเปกโตรเมทรีชนิดหนึ่ง
- Reactive-ion etching หรือ ICP-RIE
อ้างอิงแก้ไข
- ↑ A. Montaser and D. W. Golightly, eds. Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry, VCH Publishers, Inc., New York, 1992.
แหล่งข้อมูลอื่นแก้ไข
- Inductively Coupled Plasma by Traci Bradford and M. Nicole Cook เก็บถาวร 2008-09-21 ที่ เวย์แบ็กแมชชีน
 |
บทความเกี่ยวกับฟิสิกส์นี้ยังเป็นโครง คุณสามารถช่วยวิกิพีเดียได้โดยการเพิ่มเติมข้อมูล ดูเพิ่มที่ สถานีย่อย:ฟิสิกส์ |